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漢高—一種溫和的化妝清潔組合物—美國專利

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2015-02-28  瀏覽次數(shù):2719
核心提示:【發(fā) 明 者】Fahl Madlen;Hentrich Dirk;Schroeder Thomas;Meyer Jens【申 請 人】漢高(Henkel AGCo. KGaA)

【發(fā) 明 者】Fahl Madlen;Hentrich Dirk;Schroeder Thomas;Meyer Jens

【申 請 人】漢高(Henkel AG & Co. KGaA)

【申 請 號】14256499

【申 請 日】2014-04-18

【公 開 號】20140228268

【公 開 日】2014-08-14

【摘    要】一種溫和的化妝清潔劑在合適的載體中包括a)1~6wt%的至少一種如式(1)所示的的陰離子表面活性劑,其中R1為直鏈或支鏈的、飽和或不飽和的具有6~30個碳原子的烷基,R2~R5中至少有一個基團為C1-C4烷基,其余基團彼此獨立地為氫原子或C1-C4烷基,M+為銨、烷醇銨或金屬陽離子;b)2~10wt%的至少一種兩性和/或兩性離子表面活性劑;c)5~10wt%的至少一種非離子表面活性劑和/或至少一種非離子乳化劑,選自以下基團中的至少一種:烷基(低聚)苷、氧化胺和/或甘油的單和/或雙(C6-C24)羧酸酯,其中所示含量相對于總重量計算。

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